01 / PULSED LIGHT
高ピークのパルス光
瞬間的に高いピークパワーを得られる光源として、短時間の照射工程を検討できます。
LIGHT TECHNOLOGY
Xeフラッシュランプ(XFL)
高ピークのパルス光を、光加熱・乾燥・硬化・殺菌などの工程へ。
TECHNOLOGY OVERVIEW

Xeフラッシュランプの瞬間的に強い光を利用し、対象ワークと工程条件に合わせた照射システムを構成します。
LIGHT & PROCESS
発光そのものだけでなく、光をどこへ、どの範囲へ届けるかを検討します。
対象ワークと工程条件に合わせて照射の考え方を整理し、電源・冷却・制御と組み合わせます。
FEATURES
01 / PULSED LIGHT
瞬間的に高いピークパワーを得られる光源として、短時間の照射工程を検討できます。
02 / FAST / NON-CONTACT
対象に触れずに光を作用させ、処理時間やワーク条件に合わせた構成を検討できます。
03 / SYSTEM INTEGRATION
ランプ単体ではなく、照射・電源・冷却・制御を一つの系として構成します。
04 / PUBLISHED TEST
公開資料では、照射時間1秒(20ショット)の殺菌試験例が紹介されています。
APPLICATIONS
01 / LIGHT HEATING
高ピークのパルス光を熱源として利用する加熱用途。
02 / DRYING / CURING
塗布後の乾燥や硬化に向けた光加熱システム。
03 / STERILIZATION
パルス光を用いる殺菌用途向けXFLシステム。
ENGINEERING & EVALUATION
01
対象ワークと工程条件に合わせた照射構成
02
発光条件を成立させる電源構成
03
運転条件を支える冷却構成
04
照射条件と装置動作をまとめる制御
殺菌用途向け公開情報
1秒間20SHOT、最大4ランプの制御、タッチパネルによる個別設定、従来品比2億ショットのランプ寿命が公開されています。
LiB電極塗布乾燥装置
同社調査比較として、生産性1.5倍、専有面積50%縮小、消費電力50%削減が公開されています。
DEVELOPMENT FLOW
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